四氟化碳又称四氟甲烷，被视为一种无机化合物。用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体及制冷剂。常温常压下比较稳定，但是需要避免接触强氧化剂、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃气体，如果遇到高热后会造成容器内压增大，有开裂危险。通常常温下只会与液氨-金属钠试剂能发生作用。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，可广用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄露检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面都有着大量的应用。 四氟化碳常温下不与铜、镍和钨反应。杭州直销四氟化碳价格走势

四氟甲烷(CF4)是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，广用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料的蚀刻。同时，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料等行业。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格将会长期占据着蚀刻气体的市场，因此具有广的发展潜力。苏州优良四氟化碳四氟化碳可用于塑料行业；如：合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体，广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性Chemicalbook极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规格，各国为推动本国微电子工业发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，四氟化碳（CF4）以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体市场，因此具有广阔的发展潜力。

四氟甲烷（Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane），亦称四氟化碳、全氟化碳，PFC-14（R-14），化学式CF4，商品名称Reflube 14，相对分子量88.00。在常温下，四氟甲烷是无色、无臭、不燃，不溶于水的可压缩性气体。沸点-128℃，熔点-183.6℃。液体密度（-130℃）1.613g/cm3，临界温度-45.67℃，临界压力3.74MPa，蒸气压（-150.7℃）13.33kPa，介电常数（25℃，0.5MPa）1.0006。挥发性较高，是稳定的有机化合物之一，在900摄氏度时，不与钢、镍、钨、钼反应，在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25摄氏度及0.1MPa下其溶解度为0.0015％（重量比），然而与可燃性气体燃烧时， 会分解产生有毒氟化物，危险性类别为第2.2类不燃气体。四氟化碳可应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻。

    四氟化碳在常温下，四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，挥发性较高，是稳定的有机化合物之一，不易溶于水。四氟化碳无毒，但是燃烧后会产生有毒物质。四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体，充装于四氟化碳钢瓶中，饱和蒸汽压约压力2000psig。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态，印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。 四氟化碳具有高稳定性，属于完全不燃气体，常温下不与酸、碱及氧化剂反应。镇江新能源四氟化碳销售价格

四氟化碳是无色无臭并且不燃的可压缩性气体。杭州直销四氟化碳价格走势

    四氟化碳一般认为是惰性低毒物质，在高浓度下是窒息剂，其毒性不及四氯化碳。安全防护四氟化碳为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，铝等金属材料都可以使用，但是含镁大于2%的合金不能用。在高温，一些金属起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下：因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。可以用聚四氟乙烯，环氧树脂和醋酸纤维。尼龙在高温，有水和空气时变脆。聚三氟氯乙烯聚合体可以用，但稍微有膨胀。废气可直接排人大气中。 杭州直销四氟化碳价格走势

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